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光学领域为什么需要超纯水?

文章出处:作者:发表时间:2021-06-29 14:48:59

   超纯水的纯度已成为影响光学器件质量、产量和成本的重要因素之一,因此光学领域对水质的要求越来越高。同时,超纯水设备的性能直接影响超纯水的质量。

  在生产中,超纯水主要用于纯水清洗和纯水溶液配制,不同工艺对纯水的使用和水质要求不同,如果水中含有氯离子,电容器会泄漏。在电子管的生产中,电子管的阴极涂有碳酸盐,如果混入杂质,会影响电子发射,进而影响电子管的放大性能和寿命。

  

 

  在显像管和阴极射线管的生产中,采用喷涂或沉淀的方法在屏幕内壁上贴上一层荧光材料,由锌或其他金属硫化物荧光粉颗粒组成,与硅酸钾结合。它的制备需要超纯水。如果纯水中铜含量超过8ppb,则会引起发光变色,当铁含量大于50ppb时,发光会发生颜色变化、变暗和闪光,含有奇怪有机物的胶体、颗粒和细菌会降低荧光层的强度及其与玻璃壳的粘附,并会引起气泡、条纹、漏光点等缺陷产品。

  在晶体管和集成电路的生产中,超纯水主要用于清洗硅片,少量用于制备药液、氧化硅的水蒸气源、部分设备的冷却水、电镀液的制备,集成电路的质量和成品率密切相关。水中的碱金属(k、Na等)会使绝缘膜的耐压性能变差,重金属(AU、Ag、Cu等)会降低PN结的耐压性能,III族元素(B、Al、GA等)会恶化n型半导体的特性,V族元素(P、as、Sb、,等)会恶化p型半导体的特性,水中细菌高温碳化后的磷(约占灰分的20-50%)会使p型硅的局部区域变成n型硅,从而导致器件性能的恶化。如果水中的微粒(包括细菌)吸附在硅片表面,会造成电路短路或特性不良。

  传统的超纯水处理工艺为单级/双级反渗透设备+混床。其缺点是需要再生,不能连续产水,不仅效率低,而且浪费资源。莱特莱德经过多年实践,同时结合膜分离技术,采用反渗透加离子交换系统(或EDI)相结合的工艺来制取超纯水,该工艺与传统工艺相比具有运行成本低的优点(离子交换器的再生周期大大延长),运行可靠。莱特莱德超纯水设备出水水质符合美国ASTM D5127电子及半导体业用纯水水质TypeE-1.2,高于中国国家电子级超纯水标准GBT11446.1-1997EW-Ⅰ标准。

  莱特莱德超纯水设备除了应用在光学领域外,在电子、电力、造纸、日化等领域都有着广泛的应用。莱特莱德专注电子超纯水领域,是集研发设计、设备制造、工程施工、运营维护为一体的环保解决方案服务商。